PVD涂層與其他表面處理的比較1、CVD簡介（ChemicalVaporDeposition——化學氣相沉積）（1）將各種化學反應物質：如四氯化鈦（TiCl4）和甲烷（CH4）等含碳氣體（或其它碳氮氣體）蒸氣等通入反應爐體內，在高溫（900~1200℃）狀態(tài)下，TiCl4中的鈦（Ti）和碳氫化合物中的碳（C）在模具表面進行化學反應，從而生成一層金屬化合物涂層碳化鈦（TiC）。利用不同的反應物，可得到不同的薄膜，如TiN、Ti（CN）、CrC等等。（2）CVD的優(yōu)點：      ①鍍膜與基材的附著性優(yōu)良；      ②復雜的形狀都可以處理：如深孔、內管、細縫等。（3）CVD的優(yōu)點：      ①鍍膜溫度太高，對基材和反應設備的耐熱性要求很高，很多工件難以承受；      ②高溫使基材尺寸變化和變形嚴重，故適于精密度高的工件；      ③對于要求工件局部鍍膜，難以實現(xiàn)；      ④活潑性氣體源的使用，制程中有爆炸、毒性氣體泄漏等隱患，且對環(huán)境有污染。2、TD簡介（ThermalDiffusionCoatingProcess——熱擴散法碳化物覆層處理）（1）在空氣爐或鹽槽中放入一個耐熱的坩堝，將硼砂放入坩堝加熱熔化至800~1200℃，然后加入相應的碳化物形成粉末（如鈦、鋇、鈮、鉻），再將鋼或硬質合金工件放入坩堝中浸漬保溫1~2小時，加入元素將擴散至工件表面并與鋼中的碳發(fā)生反應形成碳化物層（如：VC—碳化釩；CrC—碳化鉻），所得到的碳化物層具有很高的硬度和耐磨性。（2）TD最主要適合于以下鉻鋼的工件