與傳統(tǒng)的方法相比,等離子體表面處理具有成本低、無(wú)廢棄物、無(wú)污染等顯著的優(yōu)點(diǎn),同時(shí)可以得到傳統(tǒng)的化學(xué)方法難以達(dá)到的處理效果?,F(xiàn)在低溫等離子設(shè)備廣泛運(yùn)用于金屬、微電子、聚合物、生物功能材料、低溫滅菌及污染治理等多種領(lǐng)域。
    等離子設(shè)備中頻,射頻等離子處理機(jī)型;處理方式有水平、垂直、卷式RTR、轉(zhuǎn)鼓等真空等離子處理設(shè)備和噴射、準(zhǔn)輝光、隧道、水平線多種常壓等離子處理設(shè)備;
    等離子處理機(jī)具有高穩(wěn)定性、高性?xún)r(jià)比、高均勻性等諸多優(yōu)點(diǎn)。
    特色鮮明的處理腔體形狀和電極結(jié)構(gòu)可以滿足不同形狀、不同材質(zhì)的表面處理要求,包括薄膜、織物、零件、粉體和顆粒等。
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